第655章 光刻机
能力，使中国的光刻机研发在各方面都出现了脱节，从而让中国在光刻机领域再次落后于发达国家。
进入二十一世纪，中国大多数芯片制造企业才醒悟过来，正式启动193纳米光刻机项目，但这已经落后asml公司二十多年，虽然中国在各方面急追猛赶，但始终没有在光刻机上取得历史性的突破。
而且我国光刻机的光源技术受限193纳米领域，一直无法进步，而且这个技术非常关键，导致asml公司在后世如此强势，在美国主子的授权下，直接对中国制造芯片说不，禁止向中国芯片制造企业供应先进的光刻机。
所以，国产光刻机的研发刻不容缓，不但需要众多芯片制造企业的积极参与，还需要中国政府和科研力量的大力支持，毕竟这不是一家或两家芯片生产企业能完成的。
“李总，如果你想投资光刻机制造，我们都愿意加入进来，共同打造中国的光刻机。”
在座的几位大佬纷纷表示支持，愿意加入李向阳所倡导的新一代光刻机的制造计划，虽然他们投资甚少，但是如果昌隆电子研发成功，作为光刻机研发的合作伙伴，他们最终都会受益匪浅。
“好，让我们共同研发中国的光刻机！”
李向阳伸出手来，和在座的各位大佬逐一握手，初步达成了合作意向。
虽然前途依然渺茫，但是只有通过合作，中国的半导体企业才能走得更远。
后世独霸于光刻机设备生产的asml公司，不但是一个集成组装生产商，还是全球化的受益者，其90%的零部件来自于外购，背后是美日韩、湾湾地区和德国的技术支撑，才能生产出极度复杂的euv光刻机。
为了不让光刻机方面受制于人，李向阳等人必须提前布局，不但要急追猛赶，争取在荷兰公司研发出euv光刻机之前，在光刻机制造方面取得一定的技术优势，还要兼并一些关键零部件和重要化学品企业。
特别是制造光刻机需要的光源，双工件台和反射镜，这些都是制造euv光刻机的三大重要部件。
在光源方面，虽然攻克euv光源十分重要，但是在主流的duv光源方面，中国还很落后，因为asml公司已经放弃157纳米的duv光源，转向euv光源技术。
所以，中国不但缺少研发光刻机的制造公司，还缺少研发光刻机光源的高科技企业。
在光刻机镜头方面，中国光学科研单位研发的速度十分缓慢，一直到2020年，都没有研制出什么实物。
就连duv光刻机使用的透镜和核心